2024 年，中国科学院西安光学精密机械研究所（以下简称 “西安光机所”）在光子集成芯片领域取得了系列重要进展，相关成果发表在《科学进展》（Science Advances）、《物理评论通讯》（Physical Review ...

专利审查是专利保护和运用的前提。近年来，国家知识产权局持续推进专利审查的理念更新、技术革新和工作创新，专利审查工作取得显著成效。据国家知识产权局消息，我国持续压减知识产权审查周期，发明专利平均审查周期已缩短至15.5个月，商标注册平均审查周期稳定在4个月，均达到相同审查制度下国际领先水平。