目前，全球主要的DUV光刻机制造商如ASML、Canon和Nikon，均采用氟化氩（ArF）准分子激光技术。这种技术通过氩（Ar）和氟（F）气体混合物在高压电场下生成不稳定分子，释放出193纳米波长的光子。这些光子以短脉冲、高能量形式发射，输出功率可 ...

中国科学院近日宣布在激光技术领域取得重大突破，成功研发出固态深紫外（DUV）激光源。这款创新性的激光源能够发射出与当前主流DUV曝光技术波长相同的193纳米相干光，为半导体工艺提升至3纳米节点提供了有力支持。 据了解，目前市场上主流的DUV光刻机，如ASML、佳能和尼康等品牌，均依赖于氟化氙（ArF）准分子激光技术。该技术通过特定的气体混合物在高压电场中激发，释放出193纳米波长的光子，并经过高能 ...

IT之家3 月 25 日消息，据国际光电工程学会（SPIE）消息，中国科学院（CAS）研究人员成功研发突破性的固态深紫外（DUV）激光，能发射 193 nm 的相干光（Coherent Light），该波长目前被用于半导体曝光技术。 论文介绍称，深紫外相干光，尤其是 193 nm 波长的光 ...

近日，国际光电工程学会（SPIE）传来消息，中国科学院（CAS）的研究团队在固态深紫外（DUV）激光技术领域取得了重大突破。他们成功研发出一种能够发射193纳米相干光的固态激光源，这一波长正是半导体曝光技术中的关键所在。

3月24日消息， 中国科学院（CAS）研究人员成功研发突破性的固态深紫外（DUV）激光，能发射 193 纳米的相干光（Coherent Light），与当前被广泛采用的DUV曝光技术的光源波长一致。相关论坛已经于本月初被披露在了 国际光电工程学会（ ...

本文纯干货，将为您带来关于OCT的四大知识点。 LDH-FA系列的光纤放大皮秒脉冲激光头是基于主振荡光纤放大器（MOFA）和可选变频的技术。主振荡器产生的红外皮秒脉冲，采用来自PicoQuant公司先进的增益开关技术，使其重复频率可达80 MHz并且可调。种子激光器的 ...