咱国产设备在国内芯片市场里头可是挑大梁，占了39%的份额。北方华创那家伙的蚀刻机都混进了台积电的供应链。这事不就说明咱们的芯片产业自主研发能力越来越牛了，对外国货的依赖是越来越少了。

美光 1γ DRAM 节点将首先在其 16 Gb DDR5 DRAM 中得到利用，并随着时间的推移将集成到美光的内存产品组合中，以满足行业对高性能、节能 AI 内存解决方案日益增长的需求。16 Gb DDR5 产品旨在提供高达 9200 MT/s ...

中国EUV光刻机要突破了？真相惊人！今年把ASML打成废铁？

前年荷兰光刻机巨头阿斯麦公司曾经表示，3年后中国恐怕自己就能生产光刻机设备，如果我国真的能够生产出 euv光刻机，美国想要控制，恐怕也无法达到目的，2023年已经开始，三年之期即将到来，我们的光刻机研发和建造进度如何呢发展的态势还好吗？

国产EUV光刻机突破加速！三大技术路线曝光，AMSL面临空前挑战 ...

据路透社2月24日报道，英特尔资深首席工程师Steve Carson在美国在加利福尼亚州圣何塞举行的一场会议上表示，英特尔已经安装的两台ASML High NA EUV光刻机正在其晶圆厂生产，早期数据表明它们的可靠性大约是上一代光刻机的 ...

路透社报道，处理器大厂英特尔 (Intel) 日前产业会议透露，开始用两台艾司摩尔（ASML）High-NA Twinscan EXE:5000 EUV微影曝光机。英特尔工程师Steve ...

快科技2月25日消息， Intel宣布，ASML首批两台高数值孔径（High-NA EUV）极紫光刻机已经在其工厂投入生产 。初步数据显示，其效率、可靠性比上一代EUV光刻机都有明显提升。

当地时间2025年2月25日， 美光科技（Micron Technology）宣布，它已经成为业内第一家向生态系统合作伙伴和精选客户运送其利用极紫外光（EUV）光刻技术的1γ （1-gamma）制程的第六代 （10nm 级） DRAM 节点的 ...

传统上，美光在通用DRAM领域排名第三，如今在DRAM、HBM和低功耗内存等定制半导体领域取得了显著突破。此前并未将美光视为重大威胁的韩国存储器公司，正密切关注其进展。

可以说EUV光刻机已经成为了现在炙手可热的先进产品，基于EUV打造的芯片产品也将成为行业的标杆，不过大家平时熟悉的基于EUV光刻打造的芯片为各种处理器，事实上如今DRAM颗粒也开始陆续引入EUV工艺，以取得更加出色的频率以及传输带宽，以满足AI计算与 ...

🌟半导体界又有大动作！美光宣布推出采用全新1γ制造工艺的16Gb DDR5设备，这是美光首次在DRAM生产中采用极紫外光刻（EUV）技术。这一突破不仅提升了性能，还大幅降低了功耗，为未来科技发展注入新动力！