如果说台积电是特朗普总统所说的“世界上最重要的公司”，那么 EUV 光刻设备无疑是“世界上最重要的机器”。这是否意味着 SPIE 先进光刻与图案技术会议 (SPIE Advanced Lithography & Patterning) ...

高数值孔径 EUV 光刻技术的价格高达3.8 亿美元，但在适当的情况下，它实际上可以降低总体生产成本。在 2025 年 2 月的 SPIE 先进光刻和图案化会议上，位于费尔德霍芬的 IBM 研究人员透露，一次高数值孔径曝光的成本约为标准低数值孔径曝光的 2.5 倍。这个价格看似很高，但当高数值孔径技术取代复杂的多重图案化工艺时，它的真正优势就显现出来了。SemiAnalysis去年曾预测，高数值孔 ...

IT之家3 月 25 日消息，据国际光电工程学会（SPIE）消息，中国科学院（CAS）研究人员成功研发突破性的固态深紫外（DUV）激光，能发射 193 nm 的相干光（Coherent Light），该波长目前被用于半导体曝光技术。 论文介绍称，深紫外相干光，尤其是 193 nm 波长的光 ...

3月24日消息，中国科学院（CAS）研究人员成功研发突破性的固态深紫外（DUV）激光，能发射 193 纳米的相干光（Coherent Light），与当前被广泛采用的DUV曝光技术的光源波长一致。相关论坛已经于本月初被披露在了国际光电工程学会（SPIE）的官网上。