中国EUV光刻机要突破了？真相惊人！今年把ASML打成废铁？

前年荷兰光刻机巨头阿斯麦公司曾经表示，3年后中国恐怕自己就能生产光刻机设备，如果我国真的能够生产出 euv光刻机，美国想要控制，恐怕也无法达到目的，2023年已经开始，三年之期即将到来，我们的光刻机研发和建造进度如何呢发展的态势还好吗？

国产EUV光刻机突破加速！三大技术路线曝光，AMSL面临空前挑战 ...

据路透社2月24日报道，英特尔资深首席工程师Steve Carson在美国在加利福尼亚州圣何塞举行的一场会议上表示，英特尔已经安装的两台ASML High NA EUV光刻机正在其晶圆厂生产，早期数据表明它们的可靠性大约是上一代光刻机的 ...

传统上，美光在通用DRAM领域排名第三，如今在DRAM、HBM和低功耗内存等定制半导体领域取得了显著突破。此前并未将美光视为重大威胁的韩国存储器公司，正密切关注其进展。

不仅如此，美方之前还修改了规则，进一步收紧了 EUV 光刻机的供货对象。 其二， EUV 光刻机的生产数量有限。 光刻机基本被台积电、三星等芯片制造企业龙头所包圆，其他企业想要购买，真的很难。 而目前全球又处于芯片供应紧张的大环境，汽车领域和手机领域都受到了严重的影响。 为了能够缓解缺芯的情况，各大企业都开始各显神通，故而有外媒评论：这是准备 光刻机自然就用不上了。 而美企则将目光锁定到了提升封装 ...

路透社报道，处理器大厂英特尔 (Intel) 日前产业会议透露，开始用两台艾司摩尔（ASML）High-NA Twinscan EXE:5000 EUV微影曝光机。英特尔工程师Steve ...

快科技2月25日消息， Intel宣布，ASML首批两台高数值孔径（High-NA EUV）极紫光刻机已经在其工厂投入生产 。初步数据显示，其效率、可靠性比上一代EUV光刻机都有明显提升。

当地时间2025年2月25日， 美光科技（Micron Technology）宣布，它已经成为业内第一家向生态系统合作伙伴和精选客户运送其利用极紫外光（EUV）光刻技术的1γ （1-gamma）制程的第六代 （10nm 级） DRAM 节点的 ...

可以说EUV光刻机已经成为了现在炙手可热的先进产品，基于EUV打造的芯片产品也将成为行业的标杆，不过大家平时熟悉的基于EUV光刻打造的芯片为各种处理器，事实上如今DRAM颗粒也开始陆续引入EUV工艺，以取得更加出色的频率以及传输带宽，以满足AI计算与 ...

🌟半导体界又有大动作！美光宣布推出采用全新1γ制造工艺的16Gb DDR5设备，这是美光首次在DRAM生产中采用极紫外光刻（EUV）技术。这一突破不仅提升了性能，还大幅降低了功耗，为未来科技发展注入新动力！

英国为欧洲做了同美国关系的错误示范，伦敦以与美国的特殊关系为傲，是欧洲战略自主的破坏者。但即使没有英国，欧洲大陆这么大的人口和经济规模也足以维护他们的自尊，形成受世界尊重的内生发展动力。