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和近常压X射线光电子能谱(NAP-XPS)技术,研究了EUV曝光下ZIF薄膜的化学变化及湿度对反应的影响,为EUV光刻胶的研发提供了新的思路。 图1要点:卤代ZIF薄膜的直接EUV光刻图案化。(a) ZIF-71和ZIF-8_Cl的晶体结构示意图及对应的有机配体结构,(b) ZIF 薄膜的无光刻胶 ...