香港知名科技媒体南华早报报道：美国对中国芯片产业的限制愈演愈烈，但中国科学家们通过开辟创新路径，在极紫外（EUV）光刻技术领域取得了重大突破。据香港观察人士称，2023年12月30日，哈尔滨工业大学的研究团队在黑龙江省高校科研人员创新成果转化大赛中荣 ...

近期国产光刻机领域的一个重要突破是哈工大官方官宣搞定13.5纳米极紫外光源，但这个消息出来这么久了，美国、ASML与台积电一直保持沉默，但近期新加坡毕盛资产管理创始人王国辉在彭博电视台表态看好 中芯国际 ...

近日，据国际知名硬件资讯网站Tom's Hardware报道，日本高端半导体生产商Rapidus的首席执行官小池淳义，在一场公开访谈中透露了公司的未来规划。他提到，Rapidus打算在其北海道千岁市的创新集成制造工厂IIM-1，以及未来的IIM-2，总共部署10台极紫外（EUV）光刻机。然而，关于这些光刻机的具体安装时间表，小池淳义并未透露更多细节。

光刻机领域的领头羊，荷兰ASML公司，近日正式揭晓了其2024年第四季度及全年财务业绩。在技术创新与市场需求的双重驱动下，该公司去年成功交付了三台High-NA EUV光刻系统，其中第二台设备在年末的第四季度顺利完成交付。

快科技1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器，这将为下一代EUV光刻技术发展奠定 ...