结合锗，KRS5也可用于无热绝缘IR成像系统。 KRS-5通过密封Stockbarger晶体生长技术。选择**纯度的起始材料以确保在2μm和16μm之间不存在阴离子吸收带，并且通过使用120mm的路径长度来检查所有晶体的质量。 注意：铊盐被认为是毒性，应小心处理。